企业注塑、吹瓶工序有非甲烷总烃产生，丝印、移印工序有VOCs产生，生产工序产生废气要进行收集处理后最终达到相关排放标准值后再排放。
排气管道收集后合并，经UV光解+活性炭处理后排放
工艺流程简介：
废气在风机的带动下以切线进入UV光解设备，UV光解设备能高效去除挥发性有机物（VOC）、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物。光氧催化技术是一种新型的复合纳米高科技功能的技术，其基本原理是利用光催化纳米粒子在一定波长的紫外光线照射下受到激发生成电子—空穴对，同时在氧及水的参与下，空穴分解催化剂表面吸附的水产生强氧化性的羟基自由基(•OH)，羟基自由基(•OH)，电子使其周围的氧还原成活性离子氧，从而具备极强的氧化－还原作用，利用其强氧化性，将光催化纳米粒子表面的各种污染物氧化，氧化分解空气中低浓度的化学污染物使其无害化，从而达到净化空气的目的。本技术则采用特征波长范围更广(100nm-400nm)的复合波长紫外线作为纳米光催化剂的激发光源，大大强化纳米光催化去除污染物的效率。VOC废气进入光催化净化区，首先暴露在高强紫外线下，污染物分子被活化，并由于复合波长的作用，产生大量的活性氧分子、活性负离子、光电子及羟基自由基等活性基团。活性氧分子及200-300nm波长的紫外线直接杀菌消毒及分解化学污染物，200nm-400nm波长的紫外线激发纳米光催化剂产生羟基自由基等强氧化性的活性物质，氧化分解化学污染物及细菌病毒的组份，生成CO2、H2O及无机小分子等无害气体。活性氧分子作为良好的电子受体参与光催化反应，实现活性氧氧化与纳米光催化的有效耦合，大大强化纳米光催化去除污染物的效率，真空紫外线激发产生的低浓度活性氧分子在200nm-400nm波长紫外线，及纳米光催化剂的作用下，分解并产生强氧化性的活性物质。
经自带UV光解设备后，进入活性炭吸附塔。当活性炭与有机废气接触时，有机废气吸附于活性炭的细孔中。气、固相开始接触时，对有机废气中的苯类等物质的吸附是主要过程，在活性炭的众多微孔中分为大中小三种孔，只有微小孔是吸附的主力军，活性炭具有微晶结构，微晶排列完全不规则，晶体中有微孔（半径小于20〔埃〕＝10-10米）、过渡孔（半径20～1000）、大孔（半径1000～100000），使它具有很大的内表面，比表面积为500～1700米2／克。这决定了活性炭具有良好的吸附性，可以吸附废水和废气中的金属离子、有害气体、有机污染物、色素等。随着时间的延长，活性炭细孔中吸附质浓度的不断增大，吸附速度会不断减慢，直到活性炭达到饱和状态。此时，吸附速度和解吸速度达到动态平衡，气、固相之间的传递相等。活性炭在这时需要进行更换。（更换出来的饱和活性炭需交有资质废物处理公司回收处理）最后干净气体达标排放。
3.2.3 治理工艺流程图
